近日，位于成都高新區(qū)的成都路維G11掩膜板生產(chǎn)線主體廠房順利封頂。該項目是中國首條G11 掩膜板項目，即將進入廠房凈化裝修階段，預(yù)計9月份主設(shè)備進廠安裝調(diào)試，四季度投產(chǎn)。該項目總投資10億元，并打破中國光 掩膜板長期以來依賴進口的局面。

什么是掩膜版？就好比以前相機沖印照片都要用底片，掩膜板的重要性就相當于顯示面板的底片。掩膜版是在含有鉻等金屬薄膜的玻璃基板上，形成復(fù)雜幾何圖形的圖形轉(zhuǎn)移板。例如在TFT-LCD等高端面板的曝光制程中，利用掩膜版以及曝光的手段就能夠在玻璃等基板上形成線路。

掩膜板蝕刻優(yōu)點：

1、改變了機械加工金屬零件使用車、沖等傳統(tǒng)方式；

2、對各種金屬、合金、不銹鋼平面零件的精細加工，大到傳統(tǒng)行業(yè)設(shè)備使用的大面積微孔濾網(wǎng)，小到眼睛幾乎很難以分辨的細微零件；

3、生產(chǎn)過程無外力沖擊、不變形、平整度好；生產(chǎn)周期短、應(yīng)變快、不需模具的設(shè)計、制造；產(chǎn)品無毛刺、無凸起、兩面一樣光、一樣平；

4、按圖紅加工平面凹凸型的金屬材料制品，如：文字、數(shù)字及復(fù)雜圖型、圖案。制造各種精密的，任意形狀的通孔零件。

掩膜板產(chǎn)品可以應(yīng)用于電子束蒸發(fā)，熱蒸發(fā)，磁控濺射等設(shè)備中，用來制備太陽能電池，光電探測器，LED，激光器，場效應(yīng)晶體管等各種器件電極及各種薄膜材料圖形設(shè)計。

我們已與北京大學(xué)，清華大學(xué)，中科院蘇州納米所，蘭州物化的，合肥物質(zhì)所，武漢大學(xué)，華中科技大學(xué)，中科院昆明植物研究所，北京航空航天大學(xué)，山東大學(xué)，浙江大學(xué)，吉林大學(xué)，華南理工，中山大學(xué)，東南大學(xué)，蘇州大學(xué)，太原理工大學(xué)等眾多高校和科研院所以及高技術(shù)企業(yè)形成了長期合作關(guān)系，積累了豐富的設(shè)計和制備經(jīng)驗，具備諸多優(yōu)勢。

在材質(zhì)的選取方面，我們選用高韌性的SUS304 H不銹鋼材料，這樣做出來的掩膜板不但精度高，而且表面光滑，產(chǎn)品不易受彎折而變形，經(jīng)久耐用，同時還能夠讓 掩膜板與器件保持很緊密的貼合，減少陰影效果。

我們所采用的不銹鋼厚度包括0.03mm,0.05mm,0.06mm,0.08mm到1 mm的各種尺寸，采用較薄的不銹鋼制備出來的掩膜版所產(chǎn)生的陰影效果會更少,擾度更可控。

卓力達公司的掩膜板制備工藝主要采用曝光腐蝕工藝（與光刻法在硅表面制備高精度的圖案類似），這種方法可以根據(jù)客戶要求靈活設(shè)計各種圖案，且制備出來的圖案尺寸標準。我們的 掩膜板蝕刻圖案尺寸精度可以達到0.01mm以上，邊緣銳利無毛刺，開孔直線度好，真圓度好。