產(chǎn)品新聞我們
掩膜概述
光掩膜一般也稱光罩，是微電子制造中光刻工藝所使用的圖形母版，由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形，并通過曝光將圖形轉(zhuǎn)印到產(chǎn)品基板上。光掩膜主要由兩部分組成：基板和不透光材料。作為半導(dǎo)體、液晶顯示器制造過程中轉(zhuǎn)移電路圖形“底片”的高精密工具，光掩膜是半導(dǎo)體制程中的一環(huán)。
光掩膜的應(yīng)用
光掩膜主要應(yīng)用于集成電路、平板顯示（包括 LCD、LED、OLED）、印刷電路板等領(lǐng)域，應(yīng)用較為廣泛。
光掩膜基板在光刻工藝中的應(yīng)用示例
光掩膜行業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈
光掩膜上游主要包括圖形設(shè)計、光掩膜設(shè)備及材料行業(yè)，下游主要包括IC制造、IC封裝、平面顯示和印制線路板等行業(yè)，應(yīng)用于主流消費電子 （手機(jī)、平板、可穿戴設(shè)備）、筆記本電腦、車載電子、網(wǎng)絡(luò)通信、家用電器、LED 照明、物聯(lián)網(wǎng)、醫(yī)療電子等終端產(chǎn)品。
目前全球范圍內(nèi)光刻掩膜版主要以生產(chǎn)商為主。由于下游應(yīng)用領(lǐng)域廠商自建光刻掩膜版生產(chǎn)線的投入產(chǎn)出比很低，且光刻掩膜版行業(yè)具有一定的技術(shù)壁壘，所以光刻掩膜版都是由生產(chǎn)商進(jìn)行生產(chǎn)。
光掩膜產(chǎn)業(yè)鏈
光掩膜版行業(yè)競爭格局
半導(dǎo)體光掩模市場集中度高，Photronics、大日本印刷株式會社DNP和日本凸版印刷株式會社Toppan三家占據(jù)80%以上的市場份額。
我國的光掩膜版行業(yè)僅能夠滿足國內(nèi)中低檔產(chǎn)品市場的需求，高光掩膜版則由國外公司直接提供。目前，國內(nèi)的光掩膜版企業(yè)主要集中在上海、北京、深圳及江浙地區(qū)，它們的市場側(cè)點各不相同。
2018年我國光掩膜版市場競爭結(jié)構(gòu)分析
光掩膜版行業(yè)市場概況
1. 市場供需情況
2011年我國光掩膜版生產(chǎn)規(guī)模為0.87萬平方米，2017年生產(chǎn)規(guī)模增長到1.69萬平方米，復(fù)合增長率達(dá)到14.20%。
2011-2016年我國光掩膜版生產(chǎn)規(guī)模分析
從我國光掩膜版的需求量來看，行業(yè)需求穩(wěn)定增長，2016年需求量達(dá)到了7.98萬平方米。
2011-2016年我國光掩膜版需求量
2016年我國光掩膜版國內(nèi)總產(chǎn)量為1.69萬平方米，年度消費量為7.98萬平方米，國內(nèi)光掩膜版凈進(jìn)口量達(dá)到6.29萬平方米。
2011-2016年我國光掩膜版供需統(tǒng)計圖
2. 市場規(guī)模
2018年我國光掩膜版需求市場規(guī)模為56.7億元，2016年國內(nèi)需求市場規(guī)模增長到59.5億元，規(guī)模較上年同期增長4.9%。
假設(shè)光掩膜基板材料成本占比為30% 并考慮整體市場規(guī)模的增長，則2016年我國光掩膜基板的市場規(guī)模超過20億元。
2011-2016年我國光掩膜市場規(guī)模及增速
隨著手機(jī)、電腦、液晶電視等市場需求的增長，以及穿戴式產(chǎn)品、智能家居等新型市場的興起，全球LCD面板需求也快速增長。同時，在國家政策的扶持下，我國TFT-LCD行業(yè)快速發(fā)展。
根據(jù)半導(dǎo)體協(xié)會EMI統(tǒng)計，2017年全球光掩膜市場以 37.5億 美元創(chuàng)下歷史新高，預(yù)計2019年將超越 40億 美元大關(guān)。而全球的光掩膜市場是臺灣地區(qū)，其次是韓國，而大陸在全球光掩模市場的份額現(xiàn)約個位數(shù)，市場預(yù)期在2020年有機(jī)會挑戰(zhàn)20%份額。
在合成石英玻璃材料制備方面，國內(nèi)企業(yè)已具備生產(chǎn)G8代大尺寸、高精度 TFT-LCD光掩膜基板技術(shù)能力。在我國 TFT-LCD 全球市場份額持續(xù)增長，國產(chǎn)合成石英玻璃材料競爭優(yōu)勢進(jìn)一步提升的情況下，光掩膜基板業(yè)務(wù)有望快速成長，成為企業(yè)新的業(yè)績增長點。
3. 發(fā)展趨勢
光掩膜版行業(yè)的發(fā)展主要受下游平板顯示行業(yè)、觸控行業(yè)、半導(dǎo)體行業(yè)和電路板行業(yè)的影響，與下游終端行業(yè)的發(fā)展趨勢密切相關(guān)。
在光刻掩膜版領(lǐng)域，國內(nèi)廠商與國外技術(shù)存在一定差距。目前，光罩的核心技術(shù)主要掌握在日本的HOYA、SKE，韓國的LG Micron、PKL以及我國臺灣地區(qū)的AIPC等企業(yè)手中，由于其對于光掩膜版的關(guān)鍵技術(shù)與設(shè)備進(jìn)行了較為嚴(yán)格的封鎖，所以導(dǎo)致國內(nèi)廠商在技術(shù)上與國外廠商相比存在一定的差距。
未來幾年我國掩膜版行業(yè)將向大尺寸、精細(xì)化、全產(chǎn)業(yè)鏈方向發(fā)展，因此在需求持續(xù)增加的情況下，影響光掩膜行業(yè)發(fā)展的因素還是技術(shù)的研究情況。